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韓國首爾2025年9月23日 /美通社/ -- 韓國8英寸純晶圓代工廠SK keyfoundry今日宣布推出具備業(yè)界領先高擊穿電壓特性的多層厚金屬間電介質 (Thick IMD)電容工藝。
數(shù)字隔離器的高擊穿電壓特性可增強半導體器件的安全性與可靠性,同時延長器件的使用壽命並提升抗噪能力。新型多層厚金屬間電介質 (Thick IMD)工藝支持堆疊最多三層IMD,每層最大厚度達6微米,從而在金屬-絕緣體-金屬(MIM)結構中,總厚度最高可達到18微米。該工藝可提供高達19,000V的擊穿電壓特性及優(yōu)異電容性能,預計將用於制造數(shù)字隔離用電容器,以及電子電路中抑制電容耦合的電容器。
採用此工藝制造的電容已成功通過主要客戶的經(jīng)時介電層擊穿(TDDB)評估,並符合AEC-Q100國際汽車半導體質量標準,確保在嚴苛環(huán)境下實現(xiàn)高可靠性運行。該工藝尤其可集成到0.13微米及0.18微米BCD工藝技術中,在汽車半導體領域具備極高的應用價值。此外,SK keyfoundry還提供PDK(工藝設計套件)、DRC(設計規(guī)則檢查)、LPE(版圖寄生參數(shù)提?。?、LVS(版圖與電路原理圖一致性檢查)及Pcell(參數(shù)化單元)等設計支持工具,助力客戶加速產(chǎn)品開發(fā)進程。
SK keyfoundry強調,在電動汽車、工業(yè)、通信及醫(yī)療保健等領域,部分電子設備對高抗噪能力有明確要求,與基於傳統(tǒng)光隔離器的設備相比,此項數(shù)字隔離技術將在性能、可靠性、集成度及成本效益方面形成顯著競爭優(yōu)勢。
SK keyfoundry首席執(zhí)行官Derek D. Lee表示:「我們很高興推出業(yè)界領先的用於數(shù)字隔離器的多層厚金屬間電介質 (Thick IMD)工藝技術,該技術正受到電動汽車等電子行業(yè)領域的廣泛關注。憑借相比競爭對手更出色的大規(guī)模量產(chǎn)經(jīng)驗,SK keyfoundry將持續(xù)開發(fā)高可靠性隔離技術,不僅為韓國國內客戶,還將為包括美國、中國大陸和臺灣地區(qū)在內的海外客戶提供世界級工藝技術,滿足客戶的多樣化需求。」
關於SK keyfoundry
SK keyfoundry總部位於韓國,為半導體企業(yè)提供專業(yè)的模擬與混合信號代工服務,廣泛應用於消費電子、通信、計算、汽車及工業(yè)等多個領域。憑借廣泛的技術組合及工藝節(jié)點,SK keyfoundry能夠靈活應對全球半導體企業(yè)不斷演變的需求。獲取更多信息,請訪問https://www.skkeyfoundry.com。
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